过多重曝光。

居然达到了惊人的六十五纳米。

华光微电子的高层第一时间就把这个好消息通知了苏翰。

苏翰自然没什么好奇怪的。

在极紫外光技术没有获得突破之前，以前的地球就是用这种方法制造出更高精度的光刻机的。

所以成功不奇怪。

不成功才奇怪呢。

当然和光源一起突破的，还有苏翰的离轴同轴双工作台。

有了双工作台的加持，到时候芯片产量也会大幅增加。

……

就在这个时候al公司也在进行浸没式光刻机的研发。

可以说已经到了成功的边缘。

只是让他们不知道的是，苏翰已经在全球各国注册了相关专利。

留给他们的只是一场空欢喜而已。

……

a公司这边抢先一步发布了自己的全新芯片：alngii。

该芯片同样采用类似苏翰的叠加技术，但经过了多重曝光以后，加工工艺达到了一百三十纳米。

虽然还是双核心，但晶体管的数量，达到了两亿，已经是华龙h3的一倍以上。

经过测试各项性能全面超越华龙h3。

alngii成为市场上的新王者。

虽然多重曝光会降低良品率，但通过叠加技术，良品率还在能接受的范围。

不过成为旗舰芯片的好处可就太多了。

起码在售价上可以把华龙h3挤走。

独揽高端市场。
本章已完成！ 回到1987年做科技大亨 最新章节第225章 浸润式光刻机实验成功,网址：https://www.v377.net/318_318862/224.html